SPIE Photomask Technology + EUV Lithography Monterey
29. Sep. - 03. Okt. 2024 | Fachmesse für Fotomasken
In 150 Tagen
Messetermin:
29.09.2024 - 03.10.2024*
Sonntag - Donnerstag, 5 Tage
Messekontakt
customerservice@spie.org
spie.org
Zutritt:
für Fachbesucher
Turnus:
jährlich
Die SPIE Photomask Technology + EUV Lithography ist eine technische Konferenz und Ausstellung zum Thema Fotomasken und die weltweit größte Veranstaltung ihrer Art. Ziel der SPIE Photomask Technology + EUV Lithography ist es, Ingenieure und Wissenschaftler aus der ganzen Welt zusammenzubringen, um die aktuellen Anwendungen und Entwicklungen sowie zukünftigen Trends der Branche zu diskutieren. Das Konferenzprogramm beinhaltet zahlreiche Vorträge, Präsentationen und Podiumsdiskussionen. Die SPIE Photomask Technology + EUV Lithography ist somit eine ideale Möglichkeit, Produktneuheiten aus dem Bereich Fotomasken (Materialien, Technologien, Software usw.) vorzustellen.
Die SPIE Photomask Technology + EUV Lithography findet an 5 Tagen von Sonntag, 29. September bis Donnerstag, 03. Oktober 2024 in Monterey statt.
Lokalzeit:
16:22 Uhr (UTC -07:00)